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SU-8: a photoresist for high-aspect-ratio and 3D submicron lithography

저자:
Campo, A del
저널명:
Journal of Micromechanics and Microengineering
ISSN:
0960-1317
날짜:
06.2007
 
권: 17   호: 6   페이지: R81-R95
DOI:
10.1088/0960-1317/17/6/R01

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