Pro vzdálený přístup zvolte instituci:
Vyberte instituci
NTK
ÚOCHB
VŠCHT
Jazyk:
Česky
English
SFX by Ex Libris Inc.
Contains information about title and source of a journal
Název:
Modelling of silicon hydride clustering in a low-pressure silane plasma
Podrobnosti:
Journal of Physics D-Applied Physics [0022-3727] Bhandarkar, U V rok:2000 ročník:33 iss:21 strany:2731 -2746
seznam služeb k nalezení dotazu
Contains list of services for current record
Plný text
Plný text dostupný v
Institute of Physics IOPscience extra
Nahlásit nefunkční odkaz
Děkujeme za upozornění na nefunkční odkaz
Dostupný od 1968/01/01 ročník: 1 číslo:1
Plný text dostupný v
Institute of Physics Journals
Nahlásit nefunkční odkaz
Děkujeme za upozornění na nefunkční odkaz
Dostupný od 1968/01/01 ročník: 1 číslo:1
Dostupné pro: NTK
Exempláře
Zkusit najít v
Společný katalog NTK a VŠCHT
Abstrakt
Abstrakt dostupný ve
Institute of Physics IOPscience extra
Nahlásit nefunkční odkaz
Děkujeme za upozornění na nefunkční odkaz
Dostupný od 1968 ročník: 1 číslo:1
Autor
Ostatní články od tohoto autora? -- použít
Web of Science
autor:
Bhandarkar, U V
Swihart, M T
Girshick, S L
Kortshagen, U R
příjmení
iniciály
Dostupné pro: NTK
Info o časopisu
Zobrazit impakt faktor v
Journal Citation Report
Dostupné pro: NTK
Tento časopis ve
ulrichsweb.com
Dostupné pro: NTK
Nápověda
Pro
vzdálený přístup
nejdříve vyberte instituci v horní liště -
návod zde
© 2024 SFX by Ex Libris Inc. |
Cookie Policy
CrossRef
Aktivován